名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費(fèi)用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí)，曝光服務(wù)將自動(dòng)失效，并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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有機(jī)溶劑清洗:從溶解的相似相溶規(guī)律出發(fā),一般采用汽油-丙酮-乙醇清洗,或采用乙醇-乙醚混液和異丙醇代替乙醇。采用乙醇-乙醚是因?yàn)檫@種混合液的揮發(fā)性強(qiáng),采用異丙醇是因?yàn)楫惐嫉拿撝芰?qiáng)。為降低這些有機(jī)溶劑本身在MCP表面的殘留,在每次使用有機(jī)溶劑后都要用超水進(jìn)行漂洗。在不破壞MCP表面特征的情況下可結(jié)合攪拌、鼓泡、溢流、噴淋、超聲、蒸汽脫脂等方法一起使用。半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備生產(chǎn)線用于PICOAT前清洗設(shè)備，描述了LCD生產(chǎn)線（以CSTN為主）上使用的PICOAT清洗設(shè)備的主要清洗藝流程及設(shè)備的主要組成部分，包括清洗、漂洗、氣刀、風(fēng)干、IR、UV清洗干燥、CP降溫、冷卻干燥等。半導(dǎo)體清洗機(jī)濕式清洗制程中，主要應(yīng)用項(xiàng)目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項(xiàng)。至于臟污的來源，不外乎設(shè)備本身材料產(chǎn)生、現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)員或制程工程師人體自身與動(dòng)作的影響、化學(xué)材料或制程藥劑殘留或不度的發(fā)生，以及制程反應(yīng)產(chǎn)生物的結(jié)果，尤其是制程反應(yīng)產(chǎn)生物一項(xiàng)，更成為制程污染主要來源。
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