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清洗的注意事項(xiàng)：(1)關(guān)機(jī)重啟后，時(shí)間間隔1分鐘以上，否則可能會(huì)造成電氣損壞；(2)設(shè)備運(yùn)行中，注意去離子水流量不得超過允許值，否則可能由于排放受阻而造成機(jī)器損壞；(3)每次運(yùn)行完畢后取出片子時(shí)，注意卡塞口朝上，糾正后再取出，否則片子會(huì)掉出來；(4)一旦發(fā)現(xiàn)水路的關(guān)聯(lián)件出現(xiàn)“漏水”、“滴水”現(xiàn)象應(yīng)立即關(guān)機(jī)，檢修后再運(yùn)行。氨水加氧化劑清洗液氨水加氧化劑清洗液配方為:NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20,溫度為25~40℃,時(shí)間10~30min。由于這種清洗液具有堿性、氧化性和絡(luò)合性,可以發(fā)生氧化反應(yīng)、產(chǎn)生微蝕刻作用,以達(dá)到去除表面顆粒的目的,可以去除一些有機(jī)污染物及部分重金屬離子污染物。就清洗媒介來說，濕法清洗仍然是現(xiàn)代先進(jìn)晶圓清洗工藝的主力。雖然Si技術(shù)中的清洗化學(xué)材料與初RCA的配方相差不大，但整體工藝明顯的改變包括：采用了非常稀釋的溶液；簡化工藝；廣泛使用臭氧水。
