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清洗安全操作規范：(1)藥品使用完后，必須把瓶蓋擰緊并放到安全處；(2)工作臺前的外窗門，在使用時和使用后，均應拉下封閉，防止試劑污染晶片和超凈間，危害員工健康；(3)廢液回收時一定要兩人同時在場。為了半導體清洗技術能滿足不斷出現的新需求，必須對現有工藝進行調整和修改。隨著縱向尺寸持續縮小，清洗操作過程中的材料損失和表面粗糙就會成為必須關注的領域。將微粒去除而又沒有材料損失和圖形損傷是基本的要求，因此必須考慮周全并有所折衷。氨水加氧化劑清洗液氨水加氧化劑清洗液配方為:NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20,溫度為25~40℃,時間10~30min。由于這種清洗液具有堿性、氧化性和絡合性,可以發生氧化反應、產生微蝕刻作用,以達到去除表面顆粒的目的,可以去除一些有機污染物及部分重金屬離子污染物。
