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硅清洗技術經歷了持續的發展改進，包括早期用氣相等效物替代在濕化學品中進行的部分清洗操作。難以置信的是，現代先進的Si清洗仍然依賴于大體上同一組化學溶液，不過它們的制備和送至晶圓的方法與初提出的已大不相同。此外，傳統上用濕清洗化學品做的表面選擇清洗/修整功能現在是在氣相中做的。蘇州晶淼半導體設備有限公司，我們的每臺設備除標準化制作外，還可根據客戶的工藝需求和工作環境的具體要求，對設備進行人性化、個性化設計，極大限度的將客戶的想法轉化為實際應用。能完全滿足規?；a和研發需求。隨著微粒和金屬污染的數量級逐漸減小，以及對這方面的污染控制非常有效，現在更多注意的是有機污染和表面狀態相關問題。用簡單的燈清洗法可以把有機污染從Si表面除去。此外，應特別注意溶解在水內和氣相的臭氧在控制有機污染中的作用。
