美國4Wave公司離子束鍍膜和刻蝕系統
產品概述
4Wave成立于2000年，主要人員及技術均源于美國的離子束技術公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收購后，其主要的技術及管理高層離開Commonwealth后，重新組建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究與應用離子束技術，主要產品為基于離子束技術的薄膜沉積及刻蝕系統，客戶群覆蓋大學、國防、先進技術公司等領域。
4Wave技術
1. 低能高束流離子源
2. 偏壓靶離子束沉積
3. 低能量的離子束刻蝕
產品特點
離子束刻蝕
1. 真空鎖結構可選
2. 單片或行星式裝置
3. 射頻ICP離子源
4. 刻蝕終點監測 - 二次離子質譜儀
5. 基于PC PLC的自動化控制系統架構
離子束沉積
1. 真空鎖結構可選
2. 多靶自動選擇
3. 射頻ICP離子源
4. 輔助沉積/表面預清洗離子源
5. 晶振和光學膜厚測量
6. 偏壓靶技術可選
產品應用
1.行星式氣冷刻蝕系統
2.應用于磁阻、巨磁阻的離子束沉積系統
3.研發型和工業型DLC硬質薄膜沉積系統
4.AlN介質膜離子束沉積系統
5.應用于半導體存儲器鍍層的IBD和IBE系統
6.合金納米涂層濺射系統
7.應用于紅外探測器的離子束沉積系統
8.行星式離子銑
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離子束濺射鍍膜機/離子束刻蝕機
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- 聯系人姓名：張先生
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北京創世杰科技發展有限公司
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