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深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材。一臺磁控設備往往很昂貴，但大家容易將錢花在設備其它上如真空泵，MFC, 膜厚測量上而忽略靶源。再好的磁控濺射設備若無好靶源，就像畫龍而沒有點睛一樣。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材。中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般磁控濺射靶的設計,磁場的設計是各家技術的重點,國際幾個有名的濺射靶制造商,對靶磁場的設計相當,改變磁場設計能得到不相同的等離子體蒸發量.電子的路徑,等離子體的分布,所以濺射靶磁場是各家的技術機密.
