PL16-110桌上型光表面處理裝置,其它類同產品:PL17-110,PL28-200 本裝置是為了運用短波長紫外線進行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗機。所使用的光源為160mm*160mm1１0W合成石英玻璃的面光源。 本機的正面為單開門，試驗品可以很容易的放取。試驗臺到光源使用特定的升降機可以任意改變高度，照度可以使用照度計測定。機器內部產生的臭氧經過特別設置的排出口排出。為方便運輸，將本體機體和電源分開設計。同時我們還有例如200mm角300mm角面光源，兩面照射，抽出式試驗臺，旋轉式照射臺等多種姊妹產品供您選擇。 構成和構造 光源到試驗臺之間較大有80mm距離，因此無論是膠片型還是立體物品都可以處理。照射距離可使用手動升降機調節高度。 在門上設有觀察窗，可以通過觀察窗隨時確認被照射物體的狀態。 電 源 品名 UE1101N-19 尺寸 160×655×150 H（mm） 重量 8kg 電壓 AC 100V　50/60 Hz 功率 250W 時間累計器 照射時間累計器，顯示燈管總照射時間 照射時間 0.1S～999H 燈 具 品名 PL16-110 尺寸 300×250×300 H（mm） 重量 10kg UV照度 ※1 18 mW/cm2　（照射距離10mm、測定波長254nm） 照射距離 0～80mm（手動高度調節器） 照射平臺 鋼板、采用手動高度調節器（非固定） 照射平臺大小 160×160 (mm) 燈管規格 160×160 (mm) 燈管型號 SUV110GS-36（材質：合成石英玻璃） 燈管瓦數 定格110W 冷卻方式 強制空冷 紫外線表面清洗 作者:SEN特殊光源株式會社 社長:Kikuti Kiyoshi １紫外線表面清洗 紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有廢水，廢氣，廢物產生。是高能環保型清洗殺菌方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。 紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度。 其主要原理為紫外線燈發出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成離子，流離態原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水和二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。 清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。 與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。 2二次污染的注意 玻璃表面的有機性污染膜厚度在單分子層以下時是非常清潔的表面狀態。即便是在實驗室或這是無菌室里的大氣中也會有微量的揮發性有機化合物或者硫化合物，將洗凈玻璃放置于這種環境下也會被這些蒸汽污染。高度清洗過后的表面接觸角會在30分到1小時內恢復到20度。因此我們認為超高清潔玻璃不易長時間保存。 3可以將粒子極限清洗的清洗工藝 UV臭氧清洗和濕式清洗的結合 UV臭氧清洗是使有機性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術，如下圖所示在完成清洗階段使用UV臭氧清洗技術。但是UV臭氧清洗對于粒子沒有效果。同時濕式清洗不能完全清除有機性污染，會保留幾個分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產過程中我們發現了如下圖所示UV臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。UV臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用水沖洗可以將沒有油膜保護的粒子很容易的沖洗掉，