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單晶硅反滲透水機_去離子水設備。單硅晶體超水設備主要作用是用于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，這些雜質有的是以原子狀態、離子狀態、薄膜形式、顆粒形式存在與硅片的表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬鉻、銅、鐵、金等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電;顆粒污染源則包括有機膠體纖維、微生物、細菌、塵埃、硅渣等物質，這類物質都會在生產過程中造成不同程度的危害，所以現在的半導體器件生產、太陽能電池硅片、多晶硅、單晶硅的生產過程中都需要使用超水進行沖洗，整體過程受到的危害降到小。
滲源水企業生產的單硅晶體超水設備采用的是國內先進的科技，并搭配使用國際零部件，加上公司獨到的管理經驗理念，生產出滿足于單硅晶體行業應用的量超水設備。
工藝流程：
原水箱→原水提升泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透→級間水箱→二級高壓泵→中間水箱→EDI提升泵→微孔過濾器→EDI系統→EDI水箱→拋光混床→用水點（≥18.2MΩ.CM）
設備性能：
1.
