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光學薄膜清洗用超水設備在設計上，采用成熟、、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備性。 我們公司生產二級反滲透＋EDI超水設備，有多年的生產經驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業技術都是比較成熟，在LED、LCD、半導體、光學薄膜、光電光學企業的脫鹽水和超水裝置，得到了業界的廣泛贊譽，歡迎廣大客戶前來參觀考察。樂雙源爭創業內水處理品牌-竭誠為新老客人提供產品和技術
