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電解電容專用水設(shè)備|電解電容水處理設(shè)備|凈化水設(shè)備

一、概述

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的水、水、超水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

二、應(yīng)用領(lǐng)域

1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超水；

2、超材料和超化學(xué)試劑勾兌用超水；

3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間用超水；

4、汽車、家電表面拋光處理；

5、光電子產(chǎn)品；

6、其他高科技精微產(chǎn)品；

三、制備電子工業(yè)用超水的工藝流程

1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床（復(fù)床）→超水箱→超水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)

2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→超水箱→超水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)

3、采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超水的的方式，這是一種制取超水的較新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超水箱→超水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)

四、電子工業(yè)超水設(shè)備特點(diǎn)

電子工業(yè)超水設(shè)備通常由全自動(dòng)多介質(zhì)過濾器，全自動(dòng)活性碳過濾器，全自動(dòng)軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO水水箱、超水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備性。

五、標(biāo)準(zhǔn)法規(guī)

中國電子級超水規(guī)格GB/T11446.1-1997

溫馨提示：水處理設(shè)備的要求需要了解幾點(diǎn)內(nèi)容：

1、水的產(chǎn)水量（按每小時(shí)計(jì)算）

2、水要求的水質(zhì)（例如兆歐）

3、原水進(jìn)水水質(zhì)是水（例如自來水，地表水，深井水）

4、制作水的工藝（工藝不一樣價(jià)格也不一樣）

5、用于生產(chǎn)產(chǎn)品（例如電池片，蓄電池，玻璃行業(yè)，化妝品行業(yè)，化工行業(yè)等）

6、配置的品牌及控制方式（PLC自動(dòng)控制，手動(dòng)控制）型號和數(shù)量等。