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反滲透水設備，EDI水設備，水設備
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水，超水(high-purity water,ultra-high purity water)是化學度極高的水，其中的雜質的含量小于0.1mg/L。目前人們制成的水的度已經達到99.999999%，其中雜質含量低于0.01mg/L。將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。
目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
反滲透加EDI技術，屬當今世界上好的脫鹽技術，在電子、醫藥等行業水質凈化、清洗、水質化以及廢水處理有著廣泛的應用。
電子工業超水設備主要用途：
電子工業超水設備主要用于微電子產品生產用水，半導體、顯象管制造業用超水，集成電路板生產清洗用超水，蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產用水，水，超水的制備。
例如，在電子工業方面，可以作為線路板清洗用超水的處理設備，與其它技術諸如電滲析、離子交換和蒸餾相比，具有能耗低、脫鹽率高、除菌能力強和操作簡單、維護方便的特點，大大節省了運行、維修成本。
一、應用范圍概述：
微電子行業:電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產；
化學化工：超化學試劑生產化工新材料生產；
其它：貴金屬冶煉、磁性材料生產、電子級無塵布生產、光學材料生產等；
二、典型工藝流程
1 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－化水箱－水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）
2預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透－水箱－水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）
3 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－水箱－水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥12MΩ.CM）(新工藝)
三、標準參考
顯像管、液晶顯示器用水水質
集成電路用水水質
電子級水標準
四、設備特點
超水設備具有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和運行性。
