名片曝光使用說明

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Partulab CPS-7000 LN2/LHe低溫真空探針臺是一種利用液氦/液氮快速制冷并為晶片、器件和材料(薄膜、納米、石墨烯、電子材料、超導材料、鐵電材料等)提供真空和低溫測試條件下進行非破壞性的電學表征和測量平臺。

 

■ 顯微成像裝置
便于觀察微型樣品測量,設有聚焦視覺系統,LCD19監視器、USB Camera位移臺的Monoscopes光學觀測組件,選擇合適的放大倍率和光源,可以清晰查看探針針尖位置,以便準確無誤的進行樣品測試;


■ 探針臺
將樣品放入探針臺,通過調節探針桿控制探針夾持樣品進行測量,可以通過頂部玻璃觀察窗觀察樣品情況和探針位置;

 

■ 三維位移臺
X/Y/Z驅動距離分別為50/25/25mm,X是導入桿軸向,Y是導入桿水平徑向,Z是導入桿上下方向。三維位移臺搭配壓縮波紋管,實現真空環境下三維調整,兩者中間連接電極安裝座,可以適配不通接口的真空feedthroughs;

■ 氣動隔振臺
采用低固有頻率的空氣彈簧作為振動隔離材料,并在支撐架上安裝了三個水平自動調節閥,以搭載低溫探針臺進行隔離振動干擾實驗。

 

 

技術規格

 

溫度范圍:80k-475(液氮制冷),4.2k-475k(液氮制冷)

選配低溫選件后,溫度可降低到3.2K;選配高溫選件,溫度范圍為20k-675k;控溫穩定性:+50mK;

制冷劑消耗:<1.5L/hr@LHe   <0.5L/hr@LN2;

降溫時間:液氦~30min to 10k,~60min to 5k;液氮~45min to 110k, ~60min to 80k;

測試樣品尺寸:直徑51mm;

頻率范圍:測量DC到67GHz;

XYZ位移平臺形成與精度:X軸51mm,精度20μm;Y軸25mm,精度10μm;Z軸25mm,精度10μm;

真空環境:10-5-10-6mbar

頂部光學觀察窗:標準2.0‘’(51mm);

4個直流探針臂,最多可使用6個探針臂,每個探針臂上配有三個同軸接頭及配套電纜。

 

 

該低溫真空探針臺可以對材料或器件進行電學特性測量、光電特性測量、參數測量、高阻測量、DC測量、RF測量和微波特性測量,為了提高系統的實用性,系統還可以提高3.2K的溫度擴展選件、震動隔離裝置、LN2杜瓦、高放大倍數的顯微鏡、分子泵組、熱輻射屏的溫度控制裝置、探針臂的光纖電纜、光學樣品架等選件。

 


標準配置:

低溫真空探針臺:包含探針臺、顯微成像裝置、三維位移平臺、阻尼隔振臺、液氮液氦制冷平臺


選購件:氣動隔振臺、阻尼隔振臺、3.2K低溫選件、高溫選件、帶充氣增壓杜瓦瓶、電動控制杜瓦瓶、泵管道隔震裝置、無油壓縮機、機械泵、分子泵機組等。


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