名片曝光使用說明

步驟1:創建名片

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高剪切乳化機

納米分散機,納米材料分散機,德國納米分散機,IKN納米分散機是,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。 納米分散顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規則,這樣造成了電荷的聚集。


納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態,導致表面原子配位數不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現出強烈的表面效應,很容易發生聚集而達到穩定狀態,從而團聚發生 眾所周知納米氧化物極易產生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發揮,還取決于限度降低粉體與介質間的表面張力。因此,納米氧化物粉體bi須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發揮其應有的奇異性能。 


 納米分散機 的分散效果 影響分散乳化結果的因素有以下幾點 

 1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好) 

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好) 

3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好) 

5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好) 線速度的計算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉子 間距 (m) 由上可知,剪切速率取決于以下因素: – 轉子的線速率 – 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60    高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。


根據一些行業特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎上又開發出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.

 2、設備特點 

⑴ ERS設備與傳統設備相比: 高效、節能 傳統設備需8小時的分散加工過程,ERS設備1小時左右完成,超細分散效果顯zhu,能耗ji大降低; 高速、高品質 傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉,帶分散功能的轉速每分鐘1500轉以內,只完成宏觀分散加工,超細分散能力極為有限;ERS設備的轉速每分鐘10000~15000轉之間,超高線速度產生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。

 ⑵ERS設備與同類設備相比: 多層多向剪切分散 同類設備的定轉子等部件結構單一,多級多層的結構是單純重復性加工,相同的齒槽結構易發生物料未經分散便通過工作腔的短路現象; ERS設備的定轉子結構采用多層多向剪切概念,裝配式結構使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現象,超細分散更為徹底。 納米分散機,小型納米分散機,德國納米分散機

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