Aerotech超精密氣浮平臺
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自1970年Aerotech開始研制較高性能的運動控制產品和精密定位系統,這些產品廣泛應用于世界范圍內的工業制造、及自然科學研究等行業。Aerotech能夠為生命科學及醫學設備,半導體加工,光子學,數據存儲,激光應用,航空和國防,電子產品制造、測試及裝配等行業的研究和發展,以及其他需要高精度、高自動化水平的解決方案提供滿足市場應用苛刻要求的高性能精密運動控制產品。
ABL1000氣浮平臺
1專為高性能校準和裝配應用設計
2分辨率達2nm的直線編碼器反饋
3閉環分辨率可達0.5nm(使用A3200控制器)
4全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
5低噪音線性放大器
6全部非接觸設計
行程≤150mm
精度±0.20um
重復定位精度±0.05um
直線度±0.25um
平面度±0.25um
ABL1500直線電機平臺
1專為高性能掃描和檢測應用設計
2分辨率達到nm以下的直線編碼器反饋
3全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
4大負載高剛性幾何特性好
行程≤500mm
精度±0.20um
重復定位精度±0.10um
直線度±0.25um
平面度±0.25um
ABL2000氣浮平臺
1專為晶片成像/缺陷探測/涂覆應用設計
2運動超平滑,速度穩定性突出
3直線編碼器或激光干涉儀反饋
4行程達1.2米
5全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
6全部非接觸設計
行程≤1200mm
精度±0.50um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.25um
平面度±0.25um
ABL3600氣浮平臺
1專為掃描顯微鏡/掩模/晶片檢測獨特應用設計
2雙軸,大孔,開放式結構
3非接觸直線編碼器反饋,精度高
4雙直線電機驅動XY軸
5所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
行程≤250mm
精度±1um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.50um
平面度±1um
ABL8000氣浮平臺
1專為有效負載大,負載重心偏離機架中心線的應用設計
2十字交叉結構,剛性穩定性引人注目,幾何特性好
3所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
4行程達1米
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6可集成包括花崗巖的XY子系統
行程≤1000mm
精度±0.50um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.40um
平面度±0.40um
ABL9000氣浮平臺
1世上較高性能的氣浮平臺,適用于晶片,平板顯示,光學檢測和加工等要求苛刻的場合
2所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
3行程達1.2米X1.2米
4Y軸雙直線電機驅動
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6主動控制偏轉
行程≤1200mm
精度±0.50um
重復定位精度±0.10um
直線度±0.50um
平面度±0.50um
AHL9000直線電機平臺
1專為晶片檢測,平板顯示加工和光學檢測及制造應用設計
2掃描軸是空氣軸承,步進軸是機械軸承
3行程達1.2米X1.2米
4雙直線電機驅動步進軸
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
行程≤350mm
精度±1.0um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.60um
平面度±0.60um
ABG10000氣浮平臺
1氣浮導軌實現超平滑運動
2所有軸都預加載荷
3下面軸采用雙無刷直線伺服電機驅動
3行程達1mx1m
4非接觸直線編碼器(光柵)
5可選Z軸,隔振,機械底座和控制箱
6適用于高速拾取/放置,自動化裝配,視覺檢測,點膠機,高精度檢測.
行程≤1000mm
精度±2um
重復定位精度±0.5um
直線度±1um
平面度±1um
ABRS旋轉氣浮平臺
1專為高精密檢測,光學檢測及制造和納米技術設備制造應用設計
2無刷無槽伺服電機直接驅動
3突出的速度穩定性(電機無接頭效應)
4卓越的運動性能,誤差小,無抖動
5直聯高精度旋轉編碼器
6扁平結構設計
7無機械接觸
臺面直徑128.1-278.1mm
分辨率0.18-0.036arcsec
雙向重復定位精度<1arcsec
ABRT旋轉氣浮平臺
1專為高精密檢測,光學檢測及制造和納米技術設備制造應用設計
2無刷無槽伺服電機直接驅動,高扭拒輸出
3突出的速度穩定性(電機無接頭效應)
4卓越的運動性能,誤差小,無抖動
5直聯高精度旋轉編碼器
6超大的空心軸徑,無機械接觸
臺面直徑100-200mm
分辨率0.055-0.027arcsec
雙向重復定位精度<1arcsec
PlanarHD氣浮平臺
1較大2m/s掃描速度和5g加速度的輸出
2的轉向和小的穩定時間
3主動偏轉控制
4直線光柵或激光干涉儀反饋
5行程1.2mx1.2m
行程≤1200mm
精度±300nm
重復定位精度±50nm
分辨率0.25nm