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該系列設(shè)備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發(fā)和離子源及脈沖偏壓結(jié)合等技術(shù)為一體，實行全自動化控制。此設(shè)備廣泛應(yīng)用于表帶、表殼、手機殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN，TiC，TiCN、TiAIN，CrN，Cu，Au，Al2O3等各種裝飾膜層。
參數(shù)說明：
型號 JTL-1090 JTL-1110 JTL-1312 JTL-1613
真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1300Χ1200 mm Φ 1600Χ1300 mm
鍍膜方式及主要配置
3個電弧+平面矩形陰極2對 6個電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對 6個電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對 8個電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對
鍍膜種類
金屬膜，介質(zhì)膜，化合物膜，反應(yīng)膜，多功能層次膜
電源
電弧電源，真空磁控電源，中頻磁控電源，脈沖偏壓電源，離子源電源
真空室結(jié)構(gòu)
立式前（單）開門，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷
真空系統(tǒng)組成
分子泵（擴散泵）+羅茨泵+機械泵
極限真空
8.0Χ10-4
抽氣時間
大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min
工件運動方式
公 /自轉(zhuǎn)，變頻調(diào)速
工件烘烤溫度
常溫到 350oC可調(diào)可控
控制方式
全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI
備注
該設(shè)備可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
