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真空蒸鍍是將工件裝入電鍍機內，然后將室內空氣抽走，達到一定的真空度后，將室內的鎢絲通電加熱。當達到一定的溫度后，鎢絲上所放置的金屬絲氣化，然后隨著室內的工件的轉動均勻的沉積在工件表面，形成金屬膜。一般常見的電鍍用金屬有鋁、鎳、銅等等。但由于熔點，工藝控制等方面的原因，鍍鋁成為流行的做法。
真空濺鍍主要利用輝光防電將氬氣AR離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。新型的濺鍍設備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊幾率增加，提高濺鍍速率。
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