1、 本說明書適用于ZD型鍍膜機之主要技術指標、結構、操作規程、技術安全守規及電氣系統方面的說明,作為設計與制造單位產品出廠及使用單位的主要技術文件之一。
2、 原理:在一個壓強極低的真空容器里,使固體表面淀積上一層金屬或介質的薄膜之工藝過程,稱為真空鍍膜。
3、 用途:真空鍍膜技術發展極為迅速,在電子工業,化學工業及國防工業中占有及其重要的地位,隨著科學的不斷發展,各門技術對鍍膜機的要求越來越高了。ZD-16型真空鍍膜機主要用于電子工業、裝飾工業中,在鍍膜室內設有無極調速的轉動卡具,蒸發電極等機構。
4、 主要技術指標
1、 規格:Φ1600×2000mm(鍍膜室直徑×高度)
2、 鍍膜室的極限壓力:≤6.67×10—3 Pa
3、 鍍膜室的恢復真空度時間:從大氣壓抽至5×10—2 Pa≤20min
4、 蒸發電源:功率20KVA
5、 蒸發電極數量:8~10對
6、 滾筒轉數:0~40轉/分
7、 輸入電源:三相380伏 交流,50赫茲
8、 較高消耗功率:45KVA
9、 鍍膜機外形尺寸:4500×2500×2500