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EUV(極端紫外光)【13.5nm】
「EUV」（Extreme Ultraviolet 極端紫外光源）是美日歐新開發，并引起大眾注意的新一代半導體曝光用光源。。在日本研究開發國家計畫的「EUVA」方面、GIGAPHOTON 一同參與推動EUV的開發。此外，具有歐洲研究開發力的德國XTREME 納入集團，透過日歐堅強的合作開發體制，以及早期達成事業化為目標加速開發。
※有關EUV的咨詢，請參閱GIGAPHOTON Inc.或是XTREME technologies GmbH （英文）。
開發產品
2003年 DPP光源 XTS13-15
